詳細摘要： 光學材料生產用超純水設備包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也...
產品型號：所在地：更新時間：2022-07-18 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
東莞市杰邦水處理有限公司
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詳細摘要： 光學材料生產用超純水設備包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也...
產品型號：所在地：更新時間：2022-07-18 在線留言
詳細摘要： 液晶面板生產大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸，有八分之八十以上工序需要進行化學處理，水質不純將直接影響產品部件性能。
產品型號：所在地：更新時間：2022-07-18 在線留言
詳細摘要： 觸摸屏液晶生產大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸，有八分之八十以上工序需要進行化學處理，水質不純將直接影響產品部件性能。
產品型號：所在地：更新時間：2022-07-18 在線留言
詳細摘要： 玻璃面板超純水設備包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有*行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也有*...
產品型號：所在地：更新時間：2022-07-18 在線留言
詳細摘要： 光學鏡片純水設備包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有*行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也有*行...
產品型號：所在地：更新時間：2022-07-18 在線留言
詳細摘要： 晶體加工鍍膜大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸，有八分之八十以上工序需要進行化學處理，水質不純將直接影響產品部件性能。
產品型號：所在地：更新時間：2021-12-09 在線留言
詳細摘要： 晶片清洗用超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格，達到PPb級，產水水質要求在18.2MΩ*cm(25℃)以上。
產品型號：所在地：更新時間：2021-12-09 在線留言
詳細摘要： 半導體生產用超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格，達到PPb級，產水水質要求在18.2MΩ*cm(25℃)以上。
產品型號：所在地：更新時間：2021-12-09 在線留言
詳細摘要： 電子芯片超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格，達到PPb級，產水水質要求在18.2MΩ*cm(25℃)以上。
產品型號：所在地：更新時間：2021-12-09 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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